SiC:EVアプリケーションの成長と効率を加速

SiC:EVアプリケーションの成長と効率化を加速

自動車業界は、消費者の需要、規制上の圧力、および技術革進によって推進され、電動化への記念碑的な変化を遂げています。この変革の中心には、電気自動車(EV)の効率向上、航続距離の延長、充電の高速化、および性能の向上が求められています。高度な半導体材料である炭化ケイ素(SiC)は、これらの進歩を可能にする主要な技術として急速に台頭しています。このブログ記事では、EVアプリケーションの成長と効率を加速するカスタム炭化ケイ素製品の重要な役割について掘り下げ、自動車および関連分野のエンジニア、調達マネージャー、および技術バイヤーに洞察を提供します。

EV革命:なぜ炭化ケイ素がゲームチェンジャーなのか

電気自動車は、従来のガソリンエンジン車と比較して、より高い電圧、温度、および周波数で動作できるパワーエレクトロニクスを必要とします。従来の半導体材料であるシリコン(Si)は、これらのますます厳格な要件を満たす上で、その理論的限界に達しています。優れた材料特性を持つ炭化ケイ素は、大きな飛躍を提供します。そのより広いバンドギャップ、より高い熱伝導率、およびより高い臨界電界強度は、EVシステムに直接的なメリットをもたらし、次世代の電気モビリティに不可欠なものにしています。

  • より高い効率: SiCデバイスは、スイッチング損失と伝導損失が低く、全体的なパワートレイン効率が向上します。
  • 電力密度の向上: より高い温度と周波数で動作できるため、より小型で軽量なコンポーネントが可能になり、電力密度が向上します。
  • 熱管理の強化: 優れた熱伝導率により、冷却要件が簡素化され、システムの複雑さと重量が軽減されます。
  • より速いスイッチング速度: SiCは、より高いスイッチング周波数を可能にし、インダクタやコンデンサなどの受動部品のサイズを小さくすることができます。

SiCテクノロジーに対する需要を促進する主要なEVアプリケーション

炭化ケイ素は、電気自動車内のさまざまな重要なシステム全体で広く採用されています。その独自の特性は、電力変換効率と熱性能が最重要である用途に特に役立ちます。

EVアプリケーション SiC統合のメリット EV性能への影響
メインインバータ より高い効率、スイッチング損失の削減、より高い動作温度。 車両の航続距離の延長、加速の向上、インバータの小型化と軽量化。
車載充電器(OBC) 充電時間の短縮、より高い効率、電力密度の向上。 充電時間の短縮、よりコンパクトで軽量なOBCユニット。
DC-DCコンバータ 高電圧バッテリ電力を補助システム用の低電圧に変換する際のより高い効率。 全体的なエネルギー管理の改善、コンバータの小型化。
電気コンプレッサー(A/Cなど) より効率的な動作、バッテリからのエネルギー消費の削減。 補助負荷を最小限に抑えることによる航続距離の延長、空調性能の向上。
高速充電インフラ 充電ステーションにおける、より高い電力供給、熱管理の改善を可能にします。 EVユーザーの充電時間の短縮、より堅牢な充電ステーションを実現します。

これらの用途へのSiCの統合は、単なる漸進的な改善ではなく、より実用的で、より強力で、航続距離と充電の利便性に対する消費者の期待に応えるEVへの道を開く変革的な一歩です。

EVメーカー向けのカスタム炭化ケイ素コンポーネントの利点

市販のSiCコンポーネントはメリットをもたらしますが、カスタムの炭化ケイ素ソリューションは、EVメーカーに明確な競争優位性をもたらします。特定の用途要件にSiCコンポーネントを合わせることで、性能、フォームファクター、複雑なEVアーキテクチャ内での統合を最適化できます。

  • 最適化されたパフォーマンス: カスタム設計により、電気的特性と熱的特性を微調整して、特定のEVシステムの正確なニーズに合わせ、効率と信頼性を最大化できます。
  • 熱管理の強化: カスタムの形状とパッケージングにより、放熱性を向上させることができ、インバーターや充電器などの高出力EV用途に不可欠です。これには、特定の取り付け機能や統合された冷却チャネルが含まれる場合があります。
  • 向上した電力密度: 調整されたフォームファクターにより、よりコンパクトで軽量な設計が可能になり、車両全体の軽量化と、他のコンポーネントや乗客の快適性のためのスペースの増加に貢献します。
  • 用途固有の統合: カスタムSiCモジュールは、既存または新しいEVプラットフォームにシームレスに統合できるように設計されており、組み立て時間と複雑さを軽減します。
  • 耐久性と信頼性: コンポーネントは、自動車での使用で遭遇する特定の機械的ストレス、振動、および環境条件に耐えるように設計されており、長期的な信頼性を向上させます。たとえば、カスタマイズされた機械的サポートやカプセル化を組み込むことができます。
  • サプライチェーンのセキュリティ: 専門のカスタムSiCプロバイダーとの提携は、より安定した、調整されたサプライチェーンを提供でき、大量の自動車生産に不可欠です。

投資 カスタムSiCソリューション OEMは、EV性能の限界を押し上げ、急速に成長する市場で自社の製品を差別化できます。

要求の厳しいEV環境向けの推奨炭化ケイ素グレード

SiCグレードの選択は、電気自動車の過酷な動作条件下での最適な性能と長寿命を確保するために不可欠です。さまざまな製造プロセスにより、特性の異なるSiC材料が得られます。EV用途では、高純度、優れた熱伝導率、および堅牢な機械的強度を提供するグレードが推奨されます。

EV用途に関連する一般的なSiCの種類には、以下が含まれます。

  • 焼結炭化ケイ素(SSC): SiC粉末を高温(しばしば2000℃以上)で焼結して製造される。
    • プロパティ 高密度、優れた強度、高い熱伝導率、優れた耐摩耗性と耐食性。
    • EV関連性: パワーモジュール、ヒートシンク、ポンプやコンプレッサーの耐摩耗部品など、高い強度と熱安定性が必要な構造部品に最適です。
  • 反応焼結炭化ケイ素(RBSCまたはSiSiC): 多孔質の炭素プリフォームに溶融シリコンを浸透させて製造されます。シリコンは炭素の一部と反応してSiCを形成し、残りの細孔はシリコン金属で満たされます。
    • プロパティ 優れた機械的強度、優れた耐熱衝撃性、高い熱伝導率、比較的複雑な形状を製造しやすい。
    • EV関連性: 熱性能に優れ、複雑な形状が必要なコンポーネント(熱交換器エレメントや特定のタイプのパワーエレクトロニクスモジュールパッケージングなど)に適しています。
  • 化学気相成長(CVD)SiC: 化学気相成長プロセスによって生成される高純度のSiC。
    • プロパティ 非常に高い純度、優れた表面仕上げ、優れた耐薬品性、SiC能動素子製造用のSiC基板上のSiCエピタキシャル層によく使用されます。
    • EV関連性: SiCパワーデバイスの中核であるSiC MOSFETとダイオードの製造に使用されるSiCウェーハとエピタキシャル層が主な用途です。CVD SiCで作られたカスタム構造コンポーネントは、極度の純度または特定の表面特性が最重要である場合にも使用できます。
  • 窒化物結合炭化ケイ素(NBSC): ケイ素窒化物相で結合された SiC 粒子。
    • プロパティ 優れた耐熱衝撃性、中程度の強度、溶融金属に対する優れた耐性。
    • EV関連性: 直接的なパワーエレクトロニクスではあまり一般的ではありませんが、補助的な高温コンポーネントやEV部品の製造装置に使用される可能性があります。

EVパワーモジュールとインバーターには、高純度の焼結SiC基板とCVD成長SiCエピタキシャル層が特に重要です。選択は、用途の熱的、電気的、機械的、およびコスト要件の特定のバランスによって異なります。

EVシステムにおけるSiCの重要な設計上の考慮事項

SiCコンポーネントをEVシステムに正常に統合するには、潜在的な課題を軽減しながら、そのメリットを最大限に活用するための慎重な設計上の考慮事項が必要です。エンジニアは、従来のシリコンと比較してSiCの独自の特性を考慮する必要があります。

  • 熱管理戦略:
    • SiCは高い熱伝導率を持っていますが、電力密度が向上しているため、効果的な放熱は依然として重要です。カスタムヒートシンク設計、高度な冷却技術(液体冷却、相変化材料)、および最適化された熱インターフェースが不可欠です。
    • 温度サイクル中の応力と剥離を防ぐために、SiCと周囲の材料(たとえば、銅ベースプレート、PCB)間のCTE(熱膨張係数)のミスマッチを考慮してください。
  • 電気的レイアウトと寄生:
    • SiCデバイスは非常に高速で切り替えることができます。これにより、回路レイアウト内の寄生インダクタンスと静電容量を最小限に抑え、リンギング、オーバーシュート、およびEMI(電磁干渉)を低減する必要があります。
    • より短く、より広いトレース、慎重なコンポーネント配置、および積層バスバー設計がよく使用されます。
  • ゲートドライブ設計:
    • SiC MOSFETは、Si IGBTと比較して異なるゲートドライブ要件があります(たとえば、推奨ゲート電圧、一部のデバイスの負のターンオフ電圧の必要性)。
    • 高速でクリーンなゲート信号を提供する堅牢なゲートドライバ回路は、最適なスイッチング性能と信頼性に不可欠です。
  • 機械的完全性とパッケージング:
    • SiCは脆いセラミック材料です。振動、衝撃、またはCTEのミスマッチによる機械的ストレスは、適切なパッケージングと取り付け技術を通じて慎重に管理する必要があります。
    • ダイアタッチ用の焼結接合や高度なワイヤボンディングまたは銅クリップ技術など、高度なパッケージングソリューションを使用して、信頼性と熱性能を向上させています。
  • コストと性能のトレードオフ:
    • SiCは優れた性能を提供しますが、現時点ではシリコンよりも高価です。設計者は、コンポーネントコストを正当化するために、システムレベルのメリット(たとえば、冷却の必要性の削減、小型パッシブ、効率の向上)を評価する必要があります。
    • カスタマイズは、材料の使用と統合を最適化することにより、より費用対効果の高いソリューションにつながる場合があります。
  • システムレベルの相互作用:
    • SiCの導入は、他のシステムコンポーネントに影響を与える可能性があります。たとえば、より高速なスイッチングには、より堅牢なEMIフィルタリングが必要になる場合があります。
    • SiCのメリットを最大化するには、システム設計に対する全体的なアプローチが必要です。

EV SiC部品の達成可能な許容誤差と表面仕上げ

SiCコンポーネントの精密製造は、要求の厳しいEV用途での性能に不可欠です。達成可能な公差と表面仕上げは、SiCグレード、製造プロセス(たとえば、焼結、反応接合)、およびその後の機械加工または仕上げ操作によって異なります。

寸法公差:

  • 焼結/焼成後の公差: 炉から直接出てくるコンポーネント(たとえば、焼結または反応接合部品で、さらに機械加工されていないもの)の場合、一般的な公差は、サイズと複雑さによって、寸法の±0.5%から±2%の範囲になる可能性があります。焼結中の収縮を正確に制御する必要があります。
  • 機械加工された公差: SiCは非常に硬く、精密機械加工にはダイヤモンド研削とラッピングが必要です。
    • 一般的な機械加工では、±0.025 mmから±0.1 mm(±0.001″から±0.004″)の範囲の公差を達成できます。
    • 精密研削では、±0.005 mmから±0.01 mm(±0.0002″から±0.0004″)まで、または小型部品の特定の機能に対してさらに優れた、はるかに厳しい公差を達成できます。
  • 平坦度と平行度: パワーモジュールに使用される基板の場合、平面度と平行度が重要です。ラッピングと研磨により、特定の領域で数マイクロメートル(µm)の範囲の平面度値を達成できます。

表面仕上げ:

  • 焼結/焼成後の表面: 炉から直接取り出した部品の表面仕上げは通常粗く、グリーン処理と焼成条件によっては、Ra 1.0 µmからRa 5.0 µm以上になることがよくあります。
  • 地表: ダイヤモンド研削は表面仕上げを大幅に改善でき、通常、Ra 0.4 µmからRa 0.8 µmを達成できます。
  • ラップされた表面: ラッピングは、非常に滑らかで平らな表面を達成するために使用され、Ra 0.1 µmからRa 0.4 µmになることがよくあります。
  • 研磨された表面: エピタキシー用のSiCウェーハや一部の光学部品(ただし、一般的なEV構造部品ではあまり一般的ではありません)など、非常に滑らかな表面を必要とする用途では、研磨によりRa値が0.02 µm(20ナノメートル)未満になることがあります。これは、パワーデバイスのウェーハ基板にとって重要です。

EVコンポーネントの設計者は、特定の部品形状と選択されたSiCグレードについて、達成可能な公差と表面仕上げを理解するために、設計段階の早い段階でSiCメーカーに相談することが不可欠です。これにより、性能要件を満たしながら、製造可能性と費用対効果が確保されます。

最適なEV SiC性能のための不可欠な後処理

炭化ケイ素コンポーネントの最初の成形と焼成後、EV用途の厳しい要件を満たすために、さまざまな後処理ステップが必要になることがよくあります。これらのステップは、寸法精度、表面特性、全体的な性能と信頼性を向上させます。

  • 精密研削: SiCの極度の硬度により、ダイヤモンド研削は、焼成されたコンポーネントで厳しい寸法公差、特定のプロファイル、および所望の表面仕上げを達成するための主要な方法です。これは、モーターシャフト、ベアリングコンポーネント、または精密に寸法が決められた基板などの部品にとって重要です。
  • ラッピングとポリッシング: パワーエレクトロニクスモジュールやシール用のSiC基板など、非常に平らで滑らかな表面を必要とする用途には、ラッピングと研磨が使用されます。これらのプロセスは、表面欠陥を最小限に抑え、最適な接触と熱伝達を保証します。
  • エッジ面取り/ラジアス加工: 応力集中を減らし、脆性SiC材料の欠けを防ぐために、エッジとコーナーは面取りまたは丸められることがよくあります。これは、機械的負荷を受けるか、組み立て中に取り扱われるコンポーネントにとって特に重要です。
  • クリーニング: あらゆる汚染物質、機械加工残留物、またはSiC表面からの微粒子を除去するために、徹底的な洗浄プロセスが不可欠です。これは、後続の層(例:金属化)の適切な接着を確保するため、または高感度用途で純度を維持するために重要です。
  • 金属化: パワーエレクトロニクス(例:基板、ダイアタッチパッド)に使用されるSiCコンポーネントの場合、金属化層(例:Ti/Ni/Ag、Ti/Pt/Au)を適用して、はんだ付け、ワイヤボンディング、または直接銅ボンディングを可能にします。スパッタリング、蒸着、またはメッキなどの技術が使用されます。
  • アニーリング: 特定の処理ステップ(例:金属化)の後、接着性を改善し、応力を緩和し、または材料特性を安定させるために、熱処理またはアニーリングが行われる場合があります。
  • 表面不動態化/シーリング(構造用としてはあまり一般的ではなく、アクティブデバイス用としてはより一般的): SiC自体は非常に耐性がありますが、一部の特殊なケース、特にアクティブ半導体デバイスの場合、表面を保護し、電界を管理するために、表面不動態化層(例:SiO2、Si3N4)が適用されます。一部の多孔質グレードのSiC(高性能EVではあまり一般的ではありません)の場合、透過性を低減するためにシーリングが行われる場合があります。
  • レーザー加工/穴あけ: 従来の研削では達成するのが困難または高価な微細な特徴、小さな穴、または複雑なパターンを作成するために、レーザーアブレーションはSiCの実行可能な後処理技術となり得ます。
  • 品質検査と計測: CMM(座標測定機)、光学プロファイロメトリー、SEM(走査型電子顕微鏡)、および非破壊検査(例:超音波検査)などの技術を使用した包括的な検査は、すべての仕様が満たされていることを確認するための重要な後処理ステップです。

これらの後処理ステップの選択と実行は、特定のEV用途とSiCコンポーネントの機能要件に合わせて調整されます。

EV向けSiC実装における課題の克服

炭化ケイ素は電気自動車に大きな利点をもたらしますが、その普及には課題がないわけではありません。メーカーとエンジニアは、SiCの可能性を最大限に引き出すために、いくつかのハードルに対処する必要があります。

一般的な課題:

  • 材料およびコンポーネントのコストの上昇:
    • チャレンジだ: SiCウェーハとデバイスの製造は、複雑な結晶成長と処理のため、現在、シリコンの同等品よりも高価です。
    • 緩和: システムレベルのコストメリット(冷却の削減、小型パッシブ部品、小型バッテリーまたは長距離につながる効率の向上)に焦点を当てます。SiC製造の継続的な進歩、ウェーハサイズの増加(例:200mm)、および規模の経済により、コストは徐々に削減されています。戦略的な調達とパートナーシップも役割を果たすことができます。
  • 脆性と機械加工の複雑さ:
    • チャレンジだ: SiCは非常に硬くて脆いセラミックであり、金属と比較して複雑な形状に機械加工するのが難しく、コストがかかります。適切に処理または設計しないと、破損しやすくなります。
    • 緩和: セラミックに特化した製造可能性設計(DfM)、鋭い角と応力集中を最小限に抑えます。ダイヤモンド研削やレーザー加工などの高度な機械加工技術を利用します。機械的衝撃や振動からコンポーネントを保護するために、堅牢なパッケージングと取り付けソリューションを開発します。
  • SiC MOSFETのゲートドライブの複雑さ:
    • チャレンジだ: SiC MOSFETは、多くの場合、特定のゲート電圧レベル(一部のタイプでは寄生的なターンオンを防ぐための負のターンオフ電圧を含む)と高速、高電流のゲートドライバを必要とし、Si IGBTよりも複雑になる可能性があります。
    • 緩和: これらの要件を満たすように設計された専用のSiCゲートドライバICを利用します。ゲートループインダクタンスを最小限に抑えるための慎重なPCBレイアウトが、クリーンなスイッチングに不可欠です。
  • 短絡耐性時間:
    • チャレンジだ: 一部のSiC MOSFETは、Si IGBTと比較して、短絡耐性時間が短くなる可能性があり、より高速な故障検出と保護回路が必要になります。
    • 緩和: システム設計で、高速で信頼性の高い過電流検出および保護メカニズムを実装します。デバイスメーカーも、SiC MOSFETの堅牢性の向上に取り組んでいます。
  • 高い電力密度に対する熱管理:
    • チャレンジだ: SiCは優れた熱伝導率を備えていますが、より高い電力密度で動作できるということは、より小さな体積でより多くの熱が発生することを意味し、依然として洗練された熱管理が必要です。
    • 緩和: 高度な冷却技術(例:両面冷却、液体冷却)、改良された熱インターフェース材料(TIM)、および最適化されたヒートシンク設計を採用します。SiCデバイスを冷却ソリューションと共同パッケージングすることを検討してください。
  • EMI/EMCの問題:
    • チャレンジだ: SiCデバイスのより高速なスイッチング速度は、電磁干渉(EMI)と電磁両立性(EMC)の問題の増加につながる可能性があります。
    • 緩和: 慎重なPCBレイアウト、シールド、およびフィルタリング技術を実装します。適切な場合は、ソフトスイッチングトポロジーを利用します。徹底的なEMI/EMCテストと設計反復を実施します。
  • 信頼性と長期安定性データ:
    • チャレンジだ: シリコンと比較して新しい技術であるため、特定の自動車用途におけるSiCデバイスの長期的なフィールド信頼性データが少ない場合があり、長いライフサイクルと高い安全基準が求められる業界にとっては懸念事項となる可能性があります。
    • 緩和: 広範な信頼性試験(例:HTGB、HTRB、パワーサイクリング)を実施する評判の良いSiCサプライヤーと連携してください。自動車の品質基準(AEC-Q101など)がSiCデバイスに適用されています。OEMは独自の厳格な検証を実施しています。

これらの課題に対処するには、SiC材料サプライヤー、コンポーネントメーカー、EV OEM間の協調的な取り組みが必要であり、材料、設計、製造プロセスの継続的な革新に焦点を当てる必要があります。

SiCパートナーの選択:シカーブ・テックによる濰坊の優位性

適切な炭化ケイ素サプライヤーを選択することは、EVプロジェクトの成功に大きく影響する重要な決断です。材料仕様だけでなく、深い技術的専門知識、強固な製造能力、品質へのこだわり、カスタム要件をサポートする能力を備えたパートナーが必要です。Sicarb Techは、特に戦略的なポジションと能力を活かして、ここで際立っています。

サプライヤーを選択する際の重要な考慮事項:

  • 技術的専門知識とカスタマイズ能力: サプライヤーは、特定のEVアプリケーションのニーズに合わせて、詳細な材料科学の知識を提供し、カスタムSiCコンポーネントを設計できますか?さまざまなSiCグレードと製造プロセスにおける経験を探してください。
  • 材料の品質と一貫性: サプライヤーは、原材料から完成品まで、厳格な品質管理措置を講じていますか?信頼性の高いEV性能には、一貫した材料特性が不可欠です。
  • 製造能力とスケーラビリティ: サプライヤーは、現在の開発と将来の生産立ち上げの両方について、ボリューム要件を満たすことができますか?
  • 業界経験: サプライヤーは、自動車またはパワーエレクトロニクスなど、要求の厳しい業界での実績がありますか?
  • 認証と規格: 関連する品質規格(ISO 9001など)に準拠していますか?自動車の場合、IATF 16949への準拠または認識が役立ちます。
  • ロケーションとサプライチェーン 特に大量生産の場合、近接性、ロジスティクス、サプライチェーンの回復力は重要な要素です。

ウェイファン・ハブとシカーブ・テック:ユニークな提案

高品質でカスタマイズ可能な炭化ケイ素部品の調達を検討している企業にとって、グローバルな状況を理解することが重要です。中国の炭化ケイ素カスタマイズ部品工場のハブをご紹介します。ご存知のように、中国の炭化ケイ素カスタマイズ部品製造のハブは、 中国の濰坊市にあります。この地域は、さまざまな規模の40を超える炭化ケイ素生産企業の本拠地であり、全国のSiC総生産量の80%以上を占める強力な地域です。

Sicarb Techはこの発展の最前線にいます。2015年以来、当社は先進的な炭化ケイ素生産技術を導入・実施し、現地企業の大規模生産と技術進歩の実現を大きく支援してきました。私たちは単なるサプライヤーではなく、現地の炭化ケイ素産業の出現と継続的な発展の目撃者であり、触媒でもあります。

中国科学院(濰坊)イノベーションパークの傘下で運営されるシカーブ・テックは、中国科学院の国家技術移転センターと緊密に協力する起業家パークです。シカーブ・テックは、中国科学院国家技術移転センターと緊密に連携する起業家パークであり、この連携により、中国科学院の強固な科学技術能力と人材プールへの比類ないアクセスを提供しています。私たちは重要な橋渡し役として、科学技術成果の移転と商業化における重要な要素の統合と協力を促進しています。

シカーブ・テックと提携する理由

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EV SiCコンポーネントのコスト要因とリードタイムの理解

調達マネージャーや技術バイヤーにとって、炭化ケイ素コンポーネントのコストとリードタイムに影響を与える要因を理解することは、ペースの速いEV業界で効果的なプロジェクト計画と予算編成を行う上で不可欠です。

主なコスト要因:

  • 原材料の純度とグレード: 高性能電子用途に必要な高純度SiC粉末は、技術グレードまたは冶金グレードよりも製造コストが高くなります。特定のグレード(焼結対反応結合など)もコストに影響します。
  • 部品の複雑さとサイズ: 複雑な形状、厳しい公差、および大きな部品には、より洗練されたツーリング、より長い機械加工時間、および潜在的に高い材料消費量が必要となり、すべてコストに追加されます。
  • 製造プロセス: 選択された製造ルート(軸プレス、静水圧プレス、スリップキャスティング、焼結または反応結合後の押出など)がコストに影響します。より複雑な成形方法や特殊な設備を必要とする方法は、より高価になります。
  • 機械加工と仕上げの要件: 非常に厳しい公差または超微細な表面仕上げを実現するための広範なダイヤモンド研削、ラッピング、または研磨は、SiCの硬度と、関連する専門的な労力/設備により、コストを大幅に増加させます。
  • 注文量(規模の経済): 一般的に、より多くの生産量は、最適化された機械のセットアップ、バルク材料の購入、およびプロセスの効率化により、ユニットあたりのコストを削減します。小型のカスタムバッチは、通常、1個あたりより高価です。
  • ツーリングコスト: カスタム形状の場合、初期ツーリング(金型、ダイ)は、かなりの初期投資となる可能性があります。このツーリングのコストは、多くの場合、生産量全体で償却されます。
  • 品質管理とテスト: 厳格な検査プロトコル、特殊な試験(例:熱サイクル、パワーモジュールの高電圧試験)、詳細なドキュメントは、全体的なコストに追加されますが、EVアプリケーションには不可欠です。
  • 金属化およびその他の後処理: はんだ付けまたはワイヤボンディング用の金属化層の適用、または特殊なコーティングなどの手順は、材料とプロセスのコストを追加します。
著者について

窒化ケイ素のカスタマイズ業界で10年以上の経験を持つアレックスは、炭化ケイ素製品のカスタマイズ、ターンキー工場ソリューション、トレーニングプログラム、設備設計など、国内外100以上のプロジェクトに貢献。業界に特化した記事を600本以上執筆し、この分野に深い専門知識と洞察力をもたらしている。

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私たちは中国のSiCのインサイダーなのだから。

私たちの背後には、中国科学アカデミーの専門家、10以上のSic工場の輸出提携があり、私たちは他の同業他社よりも多くのリソースと技術サポートを持っています。

シカーブテックについて

Sicarb Techは中国科学院の国家技術移転センターが支援する国家レベルのプラットフォームである。10以上の現地SiC工場と輸出提携を結び、このプラットフォームを通じて共同で国際貿易に従事し、カスタマイズされたSiC部品と技術を海外に輸出することを可能にしている。

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